催化凈化原理：光氧催化設備分解廢氣中的有機污染物分成兩個階段，

    第一階段利用高能高臭氧UV紫外線光束（發(fā)出的波長主要為170nm及184.9nm,能量為742kj/mol和647kj/mol）照射惡臭氣體，打開有機（惡臭）廢氣如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，VOC類，苯、甲苯、二甲苯等分子鍵結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鍵斷裂；在高能紫外線光束照射下廢氣中氧氣轉化為臭氧（高臭氧紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧；UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧)）與被打開的有機分子鍵的游離態(tài)的原子氧化（分子重組）轉變成低分子化合物，如CO2、H20等。

    第二階段利用燈管兩邊的催化層上的半導體光催化劑TiO2（光催化劑是指在光的輻照下，自身不發(fā)生變化，卻可以促進化學反應的物質；促進化合物的合成或使化合物降解的過程為光催化反應；光催化反應利用光能轉換成為化學反應所需的能量，來產生催化作用），在受到紫外線光激發(fā)下，電子從價帶躍遷到導帶位置，在導帶形成光生電子，在價帶形成光生空穴。利用光生電子-空穴對的還原性和氧化性能來降解廢氣中的有機污染物。兩個階段相輔相成，利用復合工藝來達到最大化分解有機污染物的目的。

    本設備廣泛應用于電子、電器、線路板、電鍍、機械、化工、電廠、礦業(yè)、冶煉、橡膠、家具、皮革、紙業(yè)、陶瓷、汽車制造等行業(yè)的噴涂、印刷、印花、絲印揮發(fā)性有機廢氣；各類惡臭氣體的除臭凈化處理及各種化工廠永處理站、醫(yī)院、制藥廠、食品廠、垃圾中轉站等場所的有機廢氣除臭、殺菌的凈化處理。